化學(xué)式: Si
電阻率(20°C):0.01-400Ω.cm
成型工藝:噴涂
密度:≥2.26g/cm3(≥96%)
純度:≥99.9%
應(yīng)用:用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光學(xué)玻璃,觸摸屏之AR膜系,LOW-E鍍膜玻璃,半導(dǎo)體電子,平面顯
示,觸摸屏
最大加工尺寸:長(zhǎng)度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客戶要求定做