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旋轉(zhuǎn)硅靶
  • 旋轉(zhuǎn)硅靶

旋轉(zhuǎn)硅靶

化學(xué)式: Si

電阻率(20°C):0.01-400Ω.cm

成型工藝:噴涂

密度:≥2.26g/cm3(≥96%)

純度:≥99.9%

應(yīng)用:用于制作SiO2/Si3N4膜,主要用于光學(xué)玻璃,觸摸屏之AR膜系,LOW-E鍍膜玻璃,半導(dǎo)體電子,平面顯

示,觸摸屏

最大加工尺寸:長(zhǎng)度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客戶要求定做

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電話:13528747447

聯(lián)系人:秦啟棟

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