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氧化鈮靶
  • 氧化鈮靶

氧化鈮靶

化學(xué)式:Nb2Ox(4.3

電阻率(20C):≤0.1Ω.cm

成型工藝:噴涂

密度:≥4.3g/cm2(≥95%)

純度:≥99.95%

應(yīng)用:主要用于LOW-E鍍膜玻璃,薄膜太陽能電池電極膜系,TFT-LCD,半導(dǎo)體電子

最大加工尺寸:長(zhǎng)度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,按客戶要求定做

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聯(lián)系人:秦啟棟

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